Räni süsipulber poleerimiseks lihvimiseks

Räni karbiidi tootmine hõlmab mitmeid keerulisi protsesse. Üks peamisi meetodeid on Achesoni protsess, mis töötati välja 19. sajandi lõpus. Selles protsessis kuumutatakse ränidioksiidi liiva ja naftakoksi segu elektri takistuses ahjus temperatuuride 2000 - 2500 kraadi ümber. Kõrge temperatuur põhjustab koksi liiva ja süsiniku ränidioksiidi ja koksi süsiniku vahelise keemilise reaktsiooni, mille tulemuseks on räni karbiidi. Achesoni protsess tekitab tavaliselt lisanditega räni karbiidi, mis nõuab täiendavaid puhastamise etappe.

Kaasaegsed tootmistehnikad keskenduvad pooljuhtide rakenduste jaoks kõrge puhtuse, ühekordse kristalliga räni karbiidi tootmisele. Keemiline aurude ladestumine (CVD) on laialdaselt kasutatav meetod kõrgete sic -üksikkristallide kasvatamiseks. CVD -s sisestatakse kõrge temperatuurireaktorisse lenduva räni segu - mis sisaldab eellasi. Need eelkäijad lagunevad ja ladestavad räni- ja süsinikuaatomid seemnekristallile, kasvades järk -järgult suure, ühekordse kristall -sic -Boule'i. Kristalli kvaliteedi tagamiseks tuleb kasvuprotsessi täpselt kontrollida, kuna kõik puudused võivad märkimisväärselt mõjutada SIC -põhiste seadmete jõudlust. Pärast kristallide kasvu viilutatakse, poleeritakse ja töödeldakse vahvliks, mida seejärel kasutatakse mitmesuguste SIC -põhiste elektrooniliste ja optoelektrooniliste seadmete valmistamiseks.

Zhenan on metallurgia- ja tulekindlatele toodetele spetsialiseerunud ettevõte, integreerides tootmise, töötlemise, müügi ning importimise ja eksportimise äri. Oleme keskendunud spetsialistide spetsialistide meeskonna ehitamisele kogu maailmas. Zhenanis oleme pühendunud täielike lahenduste pakkumisele, pakkudes oma kliendi protsesside jaoks sobivat "õiget kvaliteeti ja kogust".

Kuum tags: Räni süsivesikute pulber poleerimiseks lihvimiseks, Hiina räni süsivesikute pulber poleerimiseks, tarnijate, tehase lihvimiseks