Kõrgetasemeline materjal ränimetall 1501

Optoelektroonilisel tööstusel seisab silmitsi raske testiga polüsilicon toorainepuudus ja globaalsed fotogalvaanilised tooted kasvavad jätkuvalt aastas 30%.Ränimetall 1501Sisaldab peamiselt Fe, Al, CA, Ti, B, P, O ja muid lisandeid, enamikku räni metalli lisanditest saab suunata suunda tahkumisega, kuid see ei mõjuta suure koagulatsiooni koagulatsiooni koefitsiendiga lisandite elemente.

1.Poelektrooniline tööstus seisab silmitsi polüsilikooni tooraine puuduse tõsise testiga ja globaalsed fotogalvaanilised tooted kasvavad jätkuvalt aastas 30%.Ränimetall 1501Sisaldab peamiselt Fe, Al, CA, Ti, B, P, O ja muid lisandeid, mis võivad suunda tahkumise kaudu eemaldada enamiku räni metalli lisandid, kuid mis ei mõjuta suure koagulatsiooni koagulatsiooni koefitsiendiga lisandite elemente. Räni rafineerimise meetodit kasutatakse ränimetalli lisandite elementide oksüdeerimiseks ning eelise boori oksüdeerumise ja eemaldamise protsessis räni. Induktsiooniahjus lisatakse SEM -i ja EDS -i analüüsi kaudu ränimetalli pulbrile 40%Cao -60%sio _2 ning räni metalli terade piirides jaotuvad lisandid on ilmselgelt ilmselgelt. eemaldatud räbu rafineerimise teel, kuid raua heterofaasi ei saa oksüdeerida, kaltsiumi heterofaasi ja Cao-Sio _2 räbu on kehv ja räbu on hõlpsasti kleepuv räni ja tiigli vahelise siseseina külge tahkestamisprotsessi ajal ning räbu ja räni vedelikku saab hästi eraldada.

Kuum tags: Kõrgetasemeline materjal ränimetall 1501, Hiina kõrgetasemeline materjal ränimetall 1501 Tootjad, tarnijad, tehas