Kõrge puhtus ränimetallipulber pakub kriitilisi rolle kogu tööstuses. Peamised rakendused hõlmavad:
Alumiiniumsulamid: lisatakse voolavuse ja visaduse parandamiseks, suurendades kostitavust ja keevitatavust auto- ja kosmosekomponentides.
Keemiline süntees
Milline on tänapäeval kõrge puhtusega ränimetalli hind?
| Tööstuslikud räni hinnad erinevates riikides 5. augustil | |||||
| Kaubamärk | Hinnavahemik | ühik | Päritolu | Märkus | riik |
| 553 | 1350-1380 | USA dollarid/tonn | Hiina | Tsifyohama | Jaapan |
| 441 | 1400-1450 | USA dollarid/tonn | Hiina | Tsifyohama | |
| 553 | 1350-1380 | USA dollarid/tonn | Hiina | Tsifbusan | Lõuna -Korea |
| 441 | 1400-1450 | USA dollarid/tonn | Hiina | Tsifbusan | |
| 553 | 1350-1380 | USA dollarid/tonn | Hiina | Cif-nhava sheva | India |
| 441 | 1400-1450 | USA dollarid/tonn | Hiina | Cif-nhava sheva | |
| 0.985 | 1.45-1.6 | USD/LB | Ddp | - | USA |
| 0.99 | 1.45-1.6 | USD/LB | Ddp | - | |
| 0.985 | 2200-2250 | Euro/tonn | Ddp | - | Euroopa |
| 0.99 | 2300-2350 | Euro/tonn | Ddp | - | |
Terasest valmistamine:
Funktsioneerib deoksüdeerijana lisandite eemaldamiseks ja terase kvaliteedi viimistlemiseks.
Tulekindlad materjalid:
Kasutatakse selle stabiilsuse tõttu ahjude ja ahjude kuumakindlates vooderdis.
Battery Production:
Litium-ioon-anoodidesse lisatud energia salvestamise lahenduste jaoks.
Elektroonika ja farmaatsiad:
Töötatud pooljuhtide komponentides ja meditsiiniseadmetes.
| Hiina tööstusliku räni ekspordihind 5. augustil | |||
| Kaubamärk | Maksudetaotlus | Tõusma ja kukkuma | Märkused (USD/TON) |
| 421 | 1500-1550 | -- | Huangpu sadam, FOB |
| 2202 | 2150-2250 | -- | Huangpu sadam, FOB |
| 3303 | 1530-1560 | -- | Huangpu sadam, FOB |
| 441 | 1380-1430 | -- | Huangpu sadam, FOB |
| 553 | 1340-1360 | -- | Huangpu sadam, FOB |
Visiithttps://www.metal-alloy.com/toote kohta lisateabe saamiseks. Kui soovite toote hinnast rohkem teada saada või olete ostmisest huvitatud, saatke palun e -kiri aadressilemarket@zanewmetal.com. Me võtame teie poole tagasi kohe, kui näeme teie sõnumit.